Le dépôt sous vide par PVD une technique d'avenir

HEF s'est intéressée dès 1970 aux Dépôts Physiques en phase Vapeur (PVD), qui promettaient des performances sans commune mesure avec les procédés traditionnels. Les premières applications industrielles furent mises en œuvre en 1980.

Les dépôts PVD développés et industrialisés sont, pour la plupart, à vocation technique:

- Amélioration de la résistance à l'usure et à l'abrasion.
- Réduction du coefficient de frottement de pièces mécaniques.
- Application de couches protectrices dans le secteur optique: écrans et lunettes de protection, réflecteurs, miroirs de satellites...
- Application de métaux conducteurs de l'électricité sur céramiques, polymères, composites: connexions, condensateurs, capteurs...

Mais le groupe dispose aussi de technologies applicables aux fonctions décoratives sur verre et matières plastiques (flaconnage, parfumerie, emballage) qui offrent des débouchés particulièrement intéressants en raison des coefficients d'adhérence plus élevés qu'avec les techniques traditionnelles (galvanoplastie).